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产品详情
氢气纯化装置工作原理: |
采用非蒸散型锆铝合金16吸气剂为净化剂,该吸气剂主要吸气相为Zr5AL4、Zr5AL3、Zr3AL2、Zr2AL等多种金属间化合物,活性高,扩散活化能低,当表面吸附着气体时,在一定温度下容易向体内扩散,具有吸气速率高、吸气容量大的特点。激活后在吸气温度范围内能有效的吸收O2、N2、CO2、CO、H2、CH4和水汽等,锆铝合金不吸收He、Ar、Ne等惰性气体。所以使用该吸气剂来纯化精制Ar、Ne、He等惰性气体。 |
典型用途: |
本产品净化器采用特殊结构,具有接触面积大,阻力小,净化效率高,热功损耗小等优点。本装置可与区熔硅单晶炉配套使用可用于激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯炮、稀有金属加工等需要用高纯氩气的生产技术领域。 |
主要技术性能: |
YA-1型 YA-2型 处理气量 (Nm3/h) 1.0 2 .0 工作压力 (Mpa) 0.4 0.4 反应器工作温度 (℃) 650-700 650-700 吸气剂激活温度 (℃) 800 800 加热功率 (kW) 1.5 2.5 原料气体纯度 (%) ≥99.99 ≥99.99 纯化后气体纯度 (%) ≥99.9999 ≥99.9999 氧气纯化装置工作原理: 该氧气纯化装置采用特制催化剂,以工业普氧为原料气,经催化吸附、过滤的方法除去氧中杂质氢、甲烷、一氧化碳、二氧化碳、水气和尘埃,获得高纯氧气。典型用途: 本产品结构简单,系统气密性良好,所有催化剂可长期使用无需再生,吸附剂可在产品内再生后重复使用。本产品可广泛应用于半导体元器件、光导纤维、电子、化工仪表等需要高纯氧的各工业部门。YCZ-5/8、YCZ10-8中压氧气纯化装置适用于需要大量高纯氧气半导体、光纤、显象管等生产部门。主要技术性能:原料气指标 纯气指标 含氢量 露点 含氢量 露点 ≤2% ≤-10℃ ≤1 ppm ≤-70℃
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